Samsung приступит к выпуску продукции по технологиям SF3 и SF4X во второй половине следующего года

На этой неделе южнокорейская компания Samsung Electronics посвятила инвесторов в ближайшие планы по переходу к выпуску продукции по новым ступеням своих литографических технологий. Во второй половине следующего года она рассчитывает выпускать изделия с использованием второго поколения 3-нм техпроцесса (SF3), а также производительного варианта 4-нм технологии (SF4X).

 Источник изображения: Samsung Electronics

Источник изображения: Samsung Electronics

Во второй половине следующего года, как отмечает AnandTech, южнокорейский гигант пообещал наладить массовый выпуск продукции с использованием второго поколения 3-нм технологии и четвёртого поколения 4-нм техпроцесса для высокопроизводительных компонентов (HPC). Рынок должен вернуться к росту, поскольку в мобильном сегменте наблюдается оживление, а также растёт спрос на компоненты для высокопроизводительных вычислений.

Техпроцесс SF3 станет важным обновлением по сравнению с уже существующим SF3E, который применяется для выпуска ограниченного ассортимента продукции вроде ускорителей майнинга криптовалют с достаточно простой архитектурой. Техпроцесс SF3, по словам представителей Samsung, предоставит возможность создавать более разнообразные компоненты, поскольку ширина канала транзисторов с окружающим затвором (GAA) будет варьироваться.

 Источник изображения: Anandtech, Samsung Electronics

Источник изображения: Anandtech, Samsung Electronics

Прямого сравнения техпроцессов SF3E и SF3 компания избегает, но отмечает, что последний по сравнению с SF4 он обеспечивает увеличение скорости переключения транзисторов на 22 % при неизменных энергопотреблении и плотности размещения элементов, либо снижения энергопотребления на 34 % при неизменных частотах и плотности транзисторов, а также позволяет в случае необходимости увеличить плотность размещения транзисторов на 21 %. В общем, техпроцесс SF3 позволит создавать компоненты с более сложной структурой, а потому ассортимент чипов, выпускаемых по второму поколению 3-нм техпроцесса Samsung, должен будет расшириться по сравнению с первым поколением.

Попутно продолжается развитие семейства 4-нм технологий Samsung. Версия SF4X подойдёт для выпуска высокопроизводительных компонентов типа центральных и графических процессоров, используемых в серверной среде. Подобное решение в ассортименте техпроцессов Samsung появится впервые за долгие годы. Скорость переключения транзисторов в рамках SF4X повысится на 10 %, а уровень энергопотребления снизится на 23 %. База для сравнения в данном случае не упоминается, но ею вполне может являться техпроцесс SF4 (4LPP). Прогресс достигнут за счёт оптимизаций на уровне структуры транзисторов и применению новой архитектуры MOL. Последняя позволяет опустить минимальное напряжение до 60 мВ, ограничить колебания силы тока в выключенном состоянии пределами 10 %, а также обеспечить стабильность работы компонентов при напряжениях свыше 1 В. Использование этой архитектуры при выпуске ячеек памяти типа SRAM позволяет повысить норму прибыли. Обычно новые техпроцессы как раз обкатываются микросхемах на памяти.

Вы можете оставить комментарий, или ссылку на Ваш сайт.

Оставить комментарий